2025-11-10
钛靶制备工艺对比的区别！
钛靶的制备主要采用熔铸法和粉末冶金法，两种工艺在适用性、成本及性能上存在显著差异：1. 熔铸法原理：将高纯钛原料在真空或惰性气体保护下熔炼，浇铸成锭后经轧制、锻造及机加工成型。优点：设备...
2026-04-07
重大新闻：陕西欧凯利靶材股份有限公司，国内唯yi专炉专用，熔炼铪锭5N（99.999%）纯度达到国内蕞高，可应用于半导体芯片靶材
重大新闻：陕西欧凯利靶材股份有限公司，国内唯yi专炉专用，熔炼铪锭5N（99.999%）纯度达到国内蕞高，可应用于半导体芯片靶材
2025-11-10
高纯度钛制成的溅射镀膜核心材料，都有哪些具体用途？
一、高端电子制造1. 半导体芯片导电层与阻挡层：用于沉积钛硅化合物、钛氮化合物等薄膜，防止金属原子扩散污染硅基板，保障0.18μm以下制程芯片的良率与性能。超高纯度要求：16兆位超大规模集成电路需纯度≥...